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高壓真空滅弧室的結構和原理介紹

本文作者:大禹漢光 發(fā)布時間:2016-04-01

高壓真空滅弧室的結構和原理介紹

  高壓真空滅弧室縱向磁場觸頭:它包括第一導電桿1、第一線圈2、第一支撐3、第一導電片4、第一觸頭片5和第二觸頭片6;第二導電片7、第二支撐8、第二線圈9和第二導電桿10第一線圈2和第二線圈9 相互呈180度放置。

  縱向磁場觸頭原理:觸頭背面設置一個特殊形狀的線圈,串聯(lián)在觸頭和導電桿之間,電流主要在線圈中的環(huán)中流過。電流流過時在兩個線圈的環(huán)中的流向相同,可在觸頭打開的空間中產(chǎn)生強的縱向磁場,此縱向磁場保證在大開距下對真空電弧進行好的控制。

  縱向磁場觸頭特點:能大大降低電弧電壓,有效地限制等離子體,從而極大地提高集聚電流。存在縱向磁場時,電極表面存在均勻的陰極斑點,電弧能量均勻地輸入觸頭的整個面端,不會造成表面局部的嚴重融化。

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